Nitinol Ni-Ti 니켈 티타늄 합금 나노입자(70nm,Ni:Ti=5:5)

니켈 티타늄 niti 합금 nanopowder 메모리 금속 재료로 사용.

치과 실험실 또는 클리닉을위한 치과 용 지르코니아 세라믹 블록 제품 이름 치과 용 지르코니아 세라믹 블록 색깔 화이트 명세 특정 요구 사항 (사용자 정의)에 따라 제어 및 조정될 수 있습니다. 샘플에 대해서 우리는 무료 샘플을 제공 할 수 있습니다. 할인에 관한 우리는 대량 주문에 대한 할인을 제공합니다. oem에 관해서 우리는 oem 순서를 동의합니다. 외관 우리, 홍우 국제 그룹 , 다른 모양 &를 제안하고있다. 나노 분말, 나노 와이어, 미세 분말, 탄소 나노 튜브, 표면 코팅, 분산, 화합물 및 혁신적인 재료를 포함한다. 우리의 제품은 연구원 및 산업 그룹을위한 대량 주문을 위해 소량으로 이용 가능합니다. 질문이 있으시면 hwnano@xuzhounano.com으로 언제든지 문의하십시오. 고맙습니다. 금속, 산화물, 탄화물 및 더. 10 년 이상의 나노 소재 산업 경험. 오늘 주문하세요! 맞춤 제조 · 무료 상담 · 통관 제품 · 거의 전세계 배송

& nbsp; swcnt 단일 벽 탄소 나노 튜브는 91 % 순도와 검은 색을 띠며 주로 전도성에 사용됩니다.

탄소 나노 튜브는 짧은 튜브 1-2um 및 긴 튜브 5-20um, 고순도> 99 %의 swcnts, dwcnts, mwcnts를 가지고 있습니다.

잉크에 사용되는 나노 이산화규소 분말(sio2 나노 입자)은 내노화성 및 고온 내성이 우수, 안정성 및 안료 분산 개선. 또한 강도, 경도, 내마모성 및 잉크의 기타 기계적 특성, 접착, 부식 방지, 방수, 등..을 크게 향상시킬 수 있습니다.

나노 코발트 분말은 고밀도 자기 기록, 고 보자력, 높은 신호대 잡음비 및 내 산화성을 갖는다.

단층 카본 나노 튜브 전계 방출 장치 등을 제조하는 데 사용되는 독특한 전기적, 기계적 특성 및 화학적 안정성 성능을 제공합니다.

철 입자와 매트릭스 사이의보다 나은 결합을 형성하기 위해 코팅 된 mwcnts를 만들 수 있습니다.

금 나노 입자, 20nm - 1um의 입자 크기는 모두 99.99 %의 순도, 20nm의 외관은 진한 갈색 분말입니다. 금 나노 입자 수용액은 물에 분산 된 금 나노 입자를 사용하여 안정된 균질 한 용액을 형성하며 금보다는 금빛의 와인 레드입니다. 금 나노 입자 수용액은 다음과 같은 특징을 갖는다. 1. 외관 : 와인 빨간색 투명 액체. 2. 20 nm의 입자 크기. 3. 비 독성 맛없는 안전하고 신뢰할 수 있습니다. 4. 농도는 요구 사항에 따라 구성 할 수 있습니다. 5. 효과적인 촉매, 자유 래디 칼 효과, 항균 항산화 능력을 제거합니다. 금 나노 입자 적용 : 1. 음식, 유리, 유기체의 얼룩. 2. 유전자의 결정에 사용되는 DNA의 분석. 3. 환경 정화 제품에 사용됩니다. 4. 식품, 화장품 방부제에 사용됩니다. 5. 화장품에 금 나노 입자를 첨가하여 미백, 노화 방지, 피부 촉촉함의 효과를 나타냅니다. 6. 항균, 박테리오스, 항생제, 건강 용품, 뷰티 케어 장비 생산. hww 국제 그룹은 hw 나노 브랜드와 함께 제조, 연구 및 개발, 가공, 공급 및 nanoscale의 마케팅 : 비즈니스의 모든 측면에 관여 선도 nanomaterials 회사입니다. 가격에 대한 질문이 있거나 견적이 필요하거나 금 나노 입자가 있는지 여부를 문의하거나 주문시 다른 도움이 필요하면 hwnano@xuzhounano.com으로 전화 또는 전자 메일로 문의하십시오.

우리는 구형 나노 실버 분말 항균 제품을 사용하는 전문 판매자입니다.

활성 알루미나 나노 분말은 압력 스윙 흡착으로 널리 사용되는 높은 표면적, 우수한 열 안정성을 지니고 있습니다.

Our 4N nano β-SiC (99.99% purity) is precision-synthesized via CVD, delivering ultra-fine particle size with exceptional sintering activity for high-density ceramic components. It thrives in the most demanding semiconductor environments — from CMP chucks and lithography stages to plasma etch focus rings and chamber liners. Its chemical inertness and minimal metal impurity outgassing maximize chip yield where it matters most. Trusted by leading fabs and equipment makers worldwide.