유기 합성 촉매는 나노 비스무트 산화물 분말 Bi2O3를 사용했습니다

사이클 수명이 긴 znni 배터리 용 전극의 나노 bi2o3. 전자 기능성 분말 도핑 재료로서, 나노 알파 bi2o3 비스무트 (iii) 산화물 민감한 구성 요소, 유전체 세라믹 전자 부품의 생산에 널리 사용됩니다.

비스무스 산화물 Bi2O3 나노 입자의 한가지 용도는 비스무트 염 제조이다.

전자 세라믹 재료에 널리 사용되는 나노 비스무스 산화물 분말.

산화 비스무트 bi2o3 나노 분말은 물에 녹지 않으며 강산에 용해되는 황색 분말로서 주로 전자 산업에 사용됩니다

나노 비스무트 산화물 분말은 유기 합성 촉매에 널리 사용되는 기능성 물질이다.

비스무스 산화물 나노 분말은 전해질 물질로서 99.5 %의 순도를 갖는다.

나노 bi2o3 분말, 입자 크기는 20-30nm, 99.5 % 순도, 황색 분말, 널리 초전도 재료로 사용됩니다.

나노 bi2o3 분말, 노란색 분말, 전자 부품 소재로 널리 사용됩니다.

hw 나노 재료 판매 고순도 bi2o3 나노 비스무트 산화물 전자 도자기 및 피에조 저항 사용 o765 : 나노 비스무트 산화물, 입자 크기 20-30nm, 99.5 % o766 : 나노 비스무트 산화물, 입자 크기 30-50nm, 99.5 % bi2o3 나노 비스무트 산화물 중요한 기능 재료입니다. 산화 비스무스의 사용은 유기 합성, 세라믹 착색제, 플라스틱 난연제, 의약품 수렴제, 유리 첨가제, 고 굴절 유리 및 원자력 공학 유리 제조 및 원자로 연료에 대한 우수한 촉매 일뿐만 아니라 중요한 도핑의 일종이다 전자 산업의 분말 재료. bi2o3 나노 비스무트 산화물 분말은 주로 화학 공업 (예 : 화학 시약, 비스무스 염 제조 등), 유리 산업 (주로 착색에 사용), 전자 산업 (전자 도자기 등) 및 기타 산업 (예 : 화재 용지 제조, 원자로 연료 중 전자 산업은 가장 널리 사용되는 산화 비스무트 산업으로 주로 배리스터, 서미스터, 산화 아연 체 및 CRT 및 기타 분야에서 사용됩니다. 전자 세라믹 분말 재료, 전해질 재료, 광전자 재료, 고온 초전도 재료, ​​촉매 전자 세라믹 분말 재료 전자 세라믹 분야는 산화 비스무스의 적용을위한 성숙하고 역동적 인 분야입니다. 산화 비스무트는 전자 세라믹 분말 재료의 중요한 첨가제로서 99.5 % 이상의 일반적인 요구 사항의 순도를 제공합니다. 주요 적용 대상은 산화 아연 배리스터, 세라믹 커패시터 및 페라이트 자성 재료의 세 가지 범주입니다. 전자 도자기의 개발에서 미국은 세계에서 가장 위대한 국가 중 하나입니다. 일본은 전세계 세라믹 시장 점유율 60 %를 차지하기 위해 대량 생산과 선진 기술에 의존하고 있습니다. 나노 비스무스 산화물 연구 개발 및 제조 기술 혁신의 균질화는 또한 성능을 향상시키고 생산 비용을 줄이기 위해 전자 세라믹 관련 부품을 크게 홍보 할 것입니다. 아연 산화물 바리스터의 비스무스 산화물은 주로 에이전트, 아연 산화물 바리스터 높은 비선형 voltammetry, 주요 참여자의 특성 형성에 역할을한다.

hw 나노 비스무스 산화물 분말, 20-30nm, 99.5 %, 황색 고체 분말 나노 미터 비스무트 산화물 파우더는 중요한 기능성 소재로서 우수한 유기 합성 촉매, 세라믹 착색제, 난연성 플라스틱, 제약 수렴제, 유리 첨가제, 고 굴절률 유리 및 유리 제조 핵 엔지니어링 및 원자로 연료로 널리 사용되고 있으며 또한 중요한 전자 산업의 도펀트. Bi2O3 나노 입자는 무기질 안료, 광학 재료, 전자 재료 초전도 재료, ​​특수 기능성 세라믹 재료, 음극선 관 벽면 페인트 등에 사용할 수 있습니다. 또한 bi-based 복합 산화물은 오염 물질을 제거하기 위하여 태양 에너지를 이용하는 좋은 광촉매이다. 환경을 보호하고, 생태 균형을 유지하며, 지속 가능한 개발을 달성하기 위해 많은 기여를합니다. Bi 계 복합 산화물은 이온 전도체, 음향 및 경질 재료, 전도체, 가스 센서 및 광촉매로 사용할 수 있습니다. 작성자 : lyla

초소형 20nm 나노 산화 주석 분말은 가스 센서 재료에 널리 사용됩니다.

초 미세 니켈 나노 분말은 20nm 나노 크기, 99.8 % 순도, 높은 활성을 나타낼 수 있으며 일반적으로 부동화 된 표면 처리를합니다.