연마 액을 만드는 데 사용되는 초 경질 다이아몬드 나노 입자

연마 액을 만드는 데 사용되는 초 경질 다이아몬드 나노 입자

투기:

1. c960 : 10nm, 99 %

2. c961 : 30-50nm, 99 %

3. c962 : 80-100nm, 99 %

다이아몬드 나노 입자의 응용 :

1 . 초 경질 특성, 높은 비 표면적 및 구형 등의 다이아몬드 및 다이아몬드 나노 입자 모두의 나노 미터 이중 특성 매우 고급 마무리의 테이블을 연마하실 수 있습니다.

2. 중기 안정 분산, 나노 계면 활성제의 역할에 나노 다이아몬드 연마 액체 준비의 핵심 기술은 나노 다이아몬드 섹션의 기능 그룹 구성 및 전기적 특성을 변경, 현탁액의 분산을 변경하실 수 있습니다.

3. 나노 다이아몬드 연마 용액을 수성 및 유성 폴리싱 액에 넣습니다. 수성 연마 액은 환경 친화적 인 친환경 성을 가지므로 고속 연마를위한 연마 공정에서의 급속 냉각이라는 장점을 가지고있다.

4. 연마 액이 수성 또는 유성 중 어느 것이 든 중기에서 제조 된 임계 나노 다이아몬드, 안정한 분산.

산소, 수산기, 카르 보닐, 카르복시, 에테르 기, 산소 함유 반응기 및 반응성 라디칼 종과 질소 함유 유기 화합물 또는 많은 흡착을 포함하는 나노 다이아몬드 흡착 반응기, 이들 표면 그룹의 존재, 나노 다이아몬드 매체에서의 분산이 제공 될 수있다.

6. 기계적 연마 + 물리적 분산 (초음파 분산 및 분산 보조 기계적 교반) + 화학 분산을 이용한 나노 다이아몬드 분산 기술은 유성 또는 수성 매체에 분산 된 3 개의 나노 다이아몬드를 성공적으로 결합하여 나노 다이아몬드 연마 액체의 안정된 분산을 얻습니다.

7. 초음파 요동 나노 다이아몬드 20 ~ 100nm 작은 집계로 분산, 연마 액체는 광자 결정, 컴퓨터의 하드 디스크 기판, 광학 반도체 부품 및 집적 회로의 초정밀 구리 연마에 연결된 다양한 이루어집니다, 연마를위한 웨이퍼, 0.214nm의 표면 거칠기.

8. 울트라 - 나노 결정 다이아몬드 연마 마무리 재료로 사용할 수 있습니다, 크게 표면 거칠기를 줄일 수 있습니다; 나노 다이아몬드 연마재를 사용하는 핵심 기술은 분산제를 사용하여 나노 다이아몬드 분산제를 잘 분산시키고 부유시킬 수 있습니다. 연마 헤드에서, 분산제는 정전 대전의 처리를 제거하기위한 대전 방지 효과를 갖는 것이 바람직하다.