중요한 세라믹 재료로서 질화규소 분말 (Si3N4 분말 HW-L559)  을 사용하여 질화규소 기반 주조 시트를 제조할 수 있습니다. 이러한 유형의 캐스트 시트 에는 많은 중요한 용도와 기능이 있습니다. 제조공정은  질화규소를 슬러리로 만든 후 플로우 공정을 통해 기판에 균일하게 코팅하고, 건조 및 고화시킨 후 얇은 조각을 형성하는 공정이다. 다음은 주조 시트 에서 질화규소 분말이 수행하는 몇 가지 주요 역할을 소개합니다 .  

첫째, 기계적 성질 이  우수합니다. Si3N4의 높은 강도와 ​​경도로 인해 준비된 시트는 압축 강도와 내마모성이 뛰어나 고온, 고압 및 열악한 환경에서도 안정적인 성능을 유지할 수 있습니다. 따라서 항공 우주, 자동차 산업, 화학 장비 및 기타 분야에서 고온 구조 재료, 씰 및 기계 부품을 제조하는 데 널리 사용됩니다.

둘째,  내식성이 우수 합니다 . 질화 규소 분말은 화학적 안정성이 우수하므로 다양한 산-염기 매체, 용매 및 부식성 가스 환경에서 시트를 사용할 수 있습니다. 이로 인해 질화물 슬라이스는 화학, 전자, 의료 및 생물학 분야에서 널리 사용되었습니다. 예를 들어, 산-알칼리 용기, 반응기 및 화학 센서는 물론 부식성 의료 기기 및 바이오매스 재료를 만드는 데 사용할 수 있습니다.

게다가 질화규소 분말 si3n4를 함유한 주조 시트는 전기   절연 성능과 열전도율 도 우수합니다 . 높은 열전도율을 가지면서 고온에서도 높은 단열 성능을 유지할 수 있습니다. 이로 인해 전자 장치, 열 관리 및 방열 요구가 높은 응용 분야에 질화 규소 필름이 널리 적용되었습니다. 예를 들어, 전자 산업에서 질화 규소 필름은 고전력 전자 장치의 방열 기판으로 사용되어 생성된 열을 효과적으로 내보내고 전자 부품의 정상적인 작동 온도를 유지할 수 있습니다.

질화규소 분말 si3n4를 함유한 주조 시트는 우수한 절연 성능, 광대역 갭 등 전자적 특성도 우수합니다 . 이로 인해 광전자 장치 분야에서 널리 사용되었습니다. 이는 태양전지의 표면 반사층으로 사용되어 광전 변환 효율을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다.

즉, Si3N4 분말은 주조 시트 제조 에 중요한 역할을 합니다 . 과학과 기술이 지속적으로 발전함에 따라 질화규소의 응용 분야는 계속해서 확대되어 각계각층에 더 많은 혁신과 발전을 가져올 것으로 믿어집니다.